シリコンマイクロチャネルプレートの開発

実施期間：2005 - 2005
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 工学部 )
研究概要：

超微少電流を量子限界レベルで且つpSecオーダーの応答速度で増幅できる真空デバイスとして使用されている2次元電子増倍素子であるマイクロチャネルプレート(以下MCP)は、現在も他の個体増幅素子では代替えできない優れた特性を有している。しかし従来製法によるMCPはガラス毛細管を10万本以上結束融着して作られるため極めて高価なものとなっていた。本申請ではMCP基板としてシリコン単結晶を用い、これをフォトエッチングにより形成したマスクを使ってICPプラズマエッチング法によりマイクロチャネルをー括形成し、さらにその内壁にCVD(化学的気相成長)により2次電子増倍膜を成膜することで大面積、高利得、高分解能のMCPを低コストで製造可能とするものである。

, ,

研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

前のページに戻る