研課題
J-GLOBAL ID:202104004448397165
研究課題コード:7700107365
静岡県「超高密度フォトン産業基盤技術開発」
実施期間:2000 - 2005
実施機関 (2件):
,
研究代表者:
(
, 理事長 )
研究責任者:
(
, 学長 )
研究概要:
フェムト秒領域の超高速相互作用から得られる知見をもとに、新医療分野等の新規産業を創成するための基盤技術の確立を目指す。高出力半導体レーザー(LD)や超高速光計測技術などの先端的光技術を駆使して、LD励起・小型・高性能の高強度フェムト秒全固体レーザーと超高密度フォトン利用実証レーザーシステムを開発し、新規産業創成の可能性を実証する。 本事業では、必要なレーザーシステムを国産で開発することに重点を置き、産業機器として必要とされる「超高密度フォトン利用実証レーザーシステム」の開発を進める。超高密度フォトン利用実証レーザーシステムとは、高出力半導体レーザーや超高速計測技術などの先端的光技術を駆使して、LD励起・小型・高性能の高強度フェムト秒全個体レーザーと計測・制御・解析系などを一体化した実証システムである。このレーザーシステムは、キーデバイスである高出力半導体レーザーの高性能化(量産化・高品質化・長寿命化など)の進展とあいまって、産業開発を促進するものとなりうる。
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