研課題
J-GLOBAL ID:202104004955360540  研究課題コード:08000513

高圧二酸化炭素処理による高導電性高分子薄膜作製技術の開発と応用

実施期間:2007 - 2007
実施機関 (1件):
研究代表者: ( , 工学資源学部 )
研究概要:
導電性高分子は基礎・応用両面から近年再び注目を集めている新素材であるが、化学的安定性や伝導度の低さが実用上の問題点である。申請者は、導電性高分子膜を高圧二酸化炭素/有機溶媒混合系で処理することで膜の電導度を10-500倍高くできることを見いだした。この新知見を元に高い電導度をもつ導電性高分子膜を作製し、等価直列抵抗が従来品の1/10となる高性能電解コンデンサ作製への基礎的知見を得る。
研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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