新CVD技術による酸化物単結晶薄膜成長装置の開発

実施期間：2006 - 2006
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 国際融合創造センター創造部門, 教授 )
研究概要：

酸化亜鉛(ZnO)をはじめとする酸化物半導体結晶を育成する新規技術を開発し、単結晶薄膜育成と伝導性制御の実績を得て、成膜装置としての製品化・実用化を行う(可能性80%以上)。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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