研課題
J-GLOBAL ID:202104005374395250  研究課題コード:7700002043

触媒CVDによるシリコン成膜装置

体系的課題番号:JPMJTT9708
実施期間:1997 -
実施機関 (2件):
研究代表者: ( )
企業責任者:
DOI: https://doi.org/10.52926/JPMJTT9708
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
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研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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