ナノスプレードライヤーによる吸入用遺伝子粉末製剤調製条件の最適化

実施期間：2011 - 2011
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 薬学部, 教授 )
研究概要：

ピエゾ式ナノスプレードライ(nSD)法を用いた遺伝子粉末吸入製剤の開発を行った。生分解性ポリカチオンであるPAsp(DET)およびPEG-PAsp(DET)をベクターとして添加することにより、噴霧過程で生じる遺伝子の分解を抑制できた。全ての製剤はnSD特有の球状で空気力学的粒子径は3μm前後であった。吸入特性はPEG-PAsp(DET)製剤ではベクターの占有率が大きいためコントロール製剤よりも低下したが、混合製剤においては維持することができた。in vivo遺伝子発現効果は、PEG-PAsp(DET)製剤が優れており、nSD法が有用な遺伝子粉末製剤調製法となる可能性が示唆された。

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研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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