マスクレスで化学洗浄が不要なプリント基板配線パターン作製法の開発

実施期間：2009 - 2009
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 基盤技術部電子情報科, 研究員 )
研究概要：

プリント基板の配線パターン作製において、試作や多品種少量生産のように回路パターンを頻繁に変更する必要がある場合には、通常のマスクパターンを用いた手法ではマスクの作製コストが割高となるため、マスクレスでパターンを形成することが望まれる。そこで、上記の課題を解決するために、レーザープロセシング技術を応用し、マスクレスかつ化学洗浄不要で、必要最小限の金属材料を用いてプリント基板の配線パターンを作製する手法を開発する。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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