超臨界二酸化炭素を用いた溶体噴霧法による有機半導体薄膜創製技術の開発

実施期間：2007 - 2007
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 工学部, 助教授 )
研究概要：

本技術は,超臨界二酸化炭素に有機半導体原料を溶解させた溶体を,微細ノズルを通して基板に噴霧し基板上で結晶粒を薄膜成長させることにより有機半導体薄膜を創製するものである.高分子を始めとするあらゆる基板に対して簡単に高品質の有機薄膜を創製することができ,かつ環境調和型・省エネルギー型技術である.本課題では,試験レベルがほぼ終了した本技術の電子産業分野での実用展開を目指して,「技術の汎用性の強化」と「薄膜の自由設計の実現」を目標とする.

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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