グラフェン・オン・シリコン材料・デバイス技術の開発

体系的課題番号：JPMJCR0742
実施期間：2007 - 2013
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 電気通信研究所, 教授 )
DOI： https://doi.org/10.52926/JPMJCR0742
研究概要：

グラフェン・オン・シリコン(GOS)材料・プロセス技術の開発を通し、相補的スイッチングデバイス(CGOS)及びプラズモン共鳴テラヘルツデバイス(PRGOS)技術の開発を行います。