ナノ構造制御された超多周期積層厚膜の高速作製技術の開発

実施期間：2009 - 2009
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 工学部, 教授 )
研究概要：

研究担当者らは、10[nm]程度の硬・軟磁性層を1000層程度積層したMEMS用厚膜磁石をレーザディポジッション(PLD)法により実現しているが、ドロップレットにより積層構造が一部崩れる問題があった。そこで、基板-ターゲット間に飛散されたドロップレットを補助レーザにより再アブレーションし、成膜速度を損なうことなくドロップレットを除去する「補助レーザ法」を開発・改良し、ナノ構造厚膜磁石の一層の高性能化を達成する。

, , , ,

研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

前のページに戻る