ハイパーサミアのための高効率磁束印加ユニットの研究開発

実施期間：2009 - 2009
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 工学資源学部, 准教授 )
研究概要：

ハイパーサミアは、ガン細胞が43°Cに達するとアポトーシスする性質を利用した治療法で、腫瘍部に埋め込まれた感温磁性体のインプラントを非侵襲的に体外から高周波磁場により誘導加熱する手法である。しかし、100kW級の電源が必要となり、病室での利用は不向きであった。そこで、高精度な深部温度の検知技術の実現と磁束密度印加装置の低消費電力化に必要な「高効率磁束印加ユニット」の開発を目標としている。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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