ミリ波照射による高性能窒化珪素粉末合成法の開発と実用化

実施期間：2008 - 2008
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , リエゾンセンター, 教授 )
研究概要：

従来法より一桁近く短時間で高性能かつ低コストの窒化シリコン粉末を合成するプロセスを開発して実用を目論むものである。具体的には高純度シリコン粉末にミリ波帯電磁波を照射して、シリコンの融点以下の低温条件で粒径のそろった窒化シリコン粉末を短時間(1-2時間)で合成し、粉末の高品質化と低コスト化を実現する。これにより新しい高性能窒化シリコン粉末合成法の確立と市場への展開をはかるものである。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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