固体電解質膜作製のためのドライプロセス技術の開発

実施期間：2007 - 2007
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 工学部機能材料工学科, 教授 )
研究概要：

電子機器の超小型エネルギー源として期待される薄膜バッテリーや薄膜スーパーキャパシタには、高イオン伝導性の固体電解質膜が必須である。本研究では、代表的なドライプロセス技術であるスパッタリング法において、水蒸気を反応ガスとして用いることで、プロトン伝導性のTa2O5固体電解質膜を作製する。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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