シリコーンオイルとオゾンガスを用いた酸化シリコン膜の低温形成

実施期間：2005 - 2005
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 材料科学研究科 )
研究概要：

左図の様に窒素ガスにより気化したシリコーンオイルガスとオゾンガス(酸素を含む)とを電気炉に導入し、その熱分解・生成反応により 250°C程度の低温で形成する絶縁膜、酸化シリコン(Si)膜の電気的特性を向上させ、フラットパネルに用いる薄膜トランジスタ(TFT)などの実用電子デバイスへ使用できることを示すこと。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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