高密度実装応用のための高速・高精度・微細印刷パターニング技術の確立

体系的課題番号：JPMJTR202C
実施期間：2020 - 2024
実施機関 (2件)： ,
企業責任者：
研究責任者： ( , センシングシステム研究センター, 主任研究員 )
DOI： https://doi.org/10.52926/JPMJTR202C
研究概要：

高密度実装の再配線プロセスを劇的に高速化させるために、高速(タクト60秒以内)、高精度(座標誤差1 μm以内)、高解像度(最小線幅2 μm)をすべて満たす新規印刷プロセスを確立する。シーズ技術である「付着力コントラスト平版印刷」をベースとして、本プロセスのキーテクノロジーである刷版を、最小線幅2 μmのパターンを連続2000回以上の繰り返し印刷可能なレベルまで高度化させる。さらに刷版の座標精度を担保するために、精密温度制御された製版装置を開発する。刷版原版、製版装置、高速高精度微細印刷装置の3つを最終製品として上市することを目指す。

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研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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