オフセット・フレキソ印刷の版表面加工による微細配線パターン形成の探索

実施期間：2012 - 2013
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 大学院理工学研究科, 准教授 )
研究概要：

エレクトロニクス製品の製造技術として、10~20μm程度の線幅の導電パターンを安定的に量産することを目指した凹版オフセット印刷手法の確立を目的とした探索である。配線印刷用ブランケットは通常平らなシリコーンゴムを使用するのであるが、版表面の形状を微細な溝や穴にする。また、表面処理により、表面濡れ性を微細なメッシュのような形状で変わるように変化させることで、インキの転移現象を解明した。

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研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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