レーザープロセスによる自己組織化被膜の形成

実施期間：2007 - 2007
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 産学連携支援センター, 助教授 )
研究概要：

パルスレーザー堆積法は、ターゲットに高強度レーザーを照射することで、アブレーションと呼ばれる蒸散現象を誘起し、それにより蒸発したイオン、クラスター、原子等を対向に設置した基板上に堆積させることで被膜を生成する方法である。本研究課題においては、ハイドロキシアパタイト膜のを成膜する際の条件として、ターゲット・レーザーのパラメータ、ならびに成膜を行う際の雰囲気を最適化することで、被膜が自己組織化し高品質な被膜を得る技術の確立とその物理的過程を明らかにする。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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