研課題
J-GLOBAL ID:202104007972171432  研究課題コード:10102355

電流制御によるナノ多層膜めっき技術の開発

実施期間:2010 - 2010
実施機関 (1件):
研究責任者: ( , 工学(系)研究科(研究院), 准教授 )
研究概要:
イオン化傾向の異なる金属イオンを含む電解液を用いることで、電気めっき法によりナノ多層膜を作製することができる。本開発では電位制御ではなく、装置がシンプルな電流制御でナノ多層膜を作製するために容量の異なる2種類の電源をコンピュータで切り替えるシステムを構築し、ナノ多層膜を作製することを目的とした。リレーとAD/DAコンバータを利用して2台の電源を切り替える回路およびそれを制御するプログラムを作製し、アミド硫酸ニッケルと硫酸銅を含む電解液を利用してNi/Cuナノ多層膜の成膜を試みた。高電流密度で析出するNiはほぼ目標通りの層が形成できたが、低電流密度域のCu層の形成はやや不安定であった。今後はCu層の安定析出が課題である。
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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