研課題
J-GLOBAL ID:202104008210110424  研究課題コード:08000644

シリコン基板一体の貴金属多孔質層の形成とその応用

実施期間:2007 - 2007
実施機関 (1件):
研究代表者: ( , 理工学部, 講師 )
研究概要:
多孔質シリコンをPt多孔質へ改質出来ることを見出し,この多孔質層を触媒層とする新しい薄型燃料電池を提案・試作してきた.シリコン基板と触媒層が一体であるため,従来型に必要な触媒層保持構造は必要ない.本研究では AuやPdの多孔質層を形成し,その上に微量のPtやRuを析出させることにより,希少貴金属使用量を抑えた基板一体型の触媒層を形成し,この触媒性能の向上を目指す.
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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