揺らぎ制御によるSi系単分散ナノ粒子の非凝集大量合成技術構築

実施期間：2010 - 2011
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 高等教育開発推進センター, 助教 )
研究概要：

本研究開発では、プラズマプロセス中のプラズマ揺らぎの制御技術を確立し、Si系単分散ナノ粒子の非凝集合成技術の構築を行った。この揺らぎ制御技術により、単分散ナノ粒子のサイズを1~2nm間隔で4~8nmと数nmという小さい粒子に対する高性能制御できた。また、ナノ粒子の粒径分布においても11%分散と制御できた。更に、プラズマ揺らぎを制御することで、ナノ粒子量が従来の1.8倍に増加することが分かった。ナノ粒子サイズ、生成に対するプラズマ揺らぎの依存性を明らかにした。揺らぎ制御は、従来技術に比べ、消費電力が同じでありながら、上記のような利点があることから、今後プラズマプロセスの技術において重要になる。

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研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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