大面積電子ビーム照射によるセラミックスの新しい表面処理技術の開発

実施期間：2011 - 2011
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 大学院自然科学研究科, 教授 )
研究概要：

本研究では、大面積電子ビーム照射によるセラミックスの高能率表面仕上げ、表面改質法の確立を目的とし、表面平滑化特性の解明、照射面の組織変化、硬度や撥水性などの表面特性変化について検討を行った。その結果、ジルコニアについては、10μmRz程度の表面粗さを3μmRz以下に低減することが可能であり、表面の光沢度が上昇した。また電子の貫入現象を考慮した非定常熱電高解析により表面温度分布状態を再現することに成功した。さらに、表面改質効果を接触角および成形樹脂との接着性により検証した。その結果、撥水性はほとんど変化しなかったが成形樹脂との接着力は低下した。今後、耐摩耗性などの実用性を検討する予定である。

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研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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