研課題
J-GLOBAL ID：202104008851388023
研究課題コード：10101755
ナノ光回路のフィルム化・移植・セルフアライン光結合プロセスの開発
実施期間：2010 - 2010
実施機関 (1件)：
研究責任者：
(
, コンピュータサイエンス学部, 教授 )
研究概要：
コンピュータ光配線の主流であるSi光導波路は波長1μm以下の光を伝搬できない。我々は850nmや可視の光にも通用する感光性Sol-Gel材料を用いたナノスケール光回路を開発した。今回、そのフィルム化・移植プロセスと自己組織化光波網 (SOLNET)形成を検討した。Si waferに厚さ100nmのAlはく離層を蒸着、その上にコア幅1μmの光導波路を形成した後、 Alエッチャント/純水/アセトンの順で処理した。その結果Al層が除去でき、光導波路とwaferの分離に成功した。Wafer全体にわたる完全分離は不達成で、伝搬ロス評価とともに今後の課題となった。クリスタルバイオレットで色素増感したフォトポリマを用い、ナノスケール光回路からのSOLNET形成に成功した。光ファイバとの結合効率評価は今後の課題として残った。
タイトルに関連する用語 (7件)：
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