研課題
J-GLOBAL ID:202104008894900925
研究課題コード:09157035
マイクロ・ナノバブル技術を活用した半導体ウエハ、冶工具の洗浄技術開発
実施期間:2009 - 2009
実施機関 (1件):
研究代表者:
(
, 先端技術部門, 部門長 )
研究概要:
マイクロ・ナノバブル技術が持つ洗浄力を最大限に活用するため、異物や不純物の物性に応じた化学的条件の確立と洗浄方法の実験研究が重要であり、基礎的研究と実用化研究を平行して推進する必要がある。民間企業の実使用ウエハや冶工具などの試料の汚染物質は、プロセス条件の履歴により大きく異なる。本線実用技術を実用化するには、前処理やオゾン濃度などの条件を組合せることで汎用性のある的確な洗浄条件を確立し、信頼性の高い製造現場に適合した洗浄技術を開発する。
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