サブミクロンマッピング光電子分光分析を実現するAlN高輝度軟X線プローブの開発

実施期間：2005 - 2005
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 情報科学部 )
研究概要：

有機半導体デバイスの発展に伴い,それら解析技術にはサブミクロンの空間分解能を有するマイクロプローブ光電子分光法(XPS)の開発が急務とされている.ここでは,長寿命で高輝度な窒化アルミニウム(AlN)ターゲット電子衝撃型Al-K?軟X線源を用いた微小領域光電子分光法(マイクロプローブXPS)の開発を目的に,以下の項目について共同研究を実施した.(1)AlN薄膜のキャラクタリゼーション(大阪工業大学)、(2)AlN高速製膜技術の開発(産業技術総合研究所)、(3)AlN電子線耐久試験およびマイクロプローブの評価(?アルバックファイ)

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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