高速・大容量磁気記録デバイスの実現に向けた高機能ルチル型CrO2薄膜の低温・高品位合成

実施期間：2011 - 2012
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 大学院工学資源学研究科, 准教授 )
研究概要：

本研究課題の目的は、研究者が有効性を示したスパッタンリング成膜中に弱い高周波(VHF)プラズマを照射する新たな手法を適用し、ルチル型CrO2薄膜をこれまで実現不可能であった生産プロセスに適合し得る条件で合成することである。CrO2は、高スピン分極率・高磁気異方性・低飽和磁化などの他には無い物性を有しており、磁気記録デバイスの性能を飛躍的に向上させる可能性がある。この薄膜の形成には結晶化・酸化の促進が重要であり、上記のプラズマ照射に加え、酸化力の強い酸化種を励起するプロセスの検討も行う。本研究により確立されたCrO2薄膜の合成手法の技術移転により、高性能磁気記録デバイスの形成が現実のものとなる。

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研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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