ガラス基板上への2軸配向シリコン薄膜の作製手法の開発

実施期間：2007 - 2007
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 工学部, 助教授 )
研究概要：

本研究では,液晶ディプレイや有機ELなどのフラットパネルディスプレイ上に,プロセッサやメモリなどの動作速度の速い回路を搭載するために必要な単結晶シリコン薄膜をガラス基板上に作製する技術の開発を行う.ガラス基板上にイオンビームを特定の方向から照射しながら,バッファ層を形成することで単結晶のように結晶方位が3軸とも揃った2軸配向膜を形成し,その上にシリコンをエピタキシャル成長させることで単結晶のような2軸配向膜シリコン薄膜を得る.

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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