柔軟性をもつフォトレジスト用クレゾールノボラック樹脂の開発

実施期間：2009 - 2009
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 物質工学科, 准教授 )
研究概要：

クレゾールノボラック樹脂は半導体集積回路の作成工程で使用され、ナノスケールに迫るレジストパターンを与えるフォトレジスト樹脂である。しかし、現在のフォトレジスト樹脂は膜質が脆く、柔軟性に欠ける為、フレキシブル基盤のポリイミドフイルム上に集積回路レベルの微細なリソグラフフィー描画は困難である。本試験研究は、ポリイミドフイルム上に2マイクロメートル未満の微細描画を実現するため、描画特性と柔軟性を併せもつクレゾールノボラック樹脂を開発することである。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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