研課題
J-GLOBAL ID:202104010232783354  研究課題コード:12102436

半導体超微細加工を可能とするケイ素含有レジスト材原料の環境調和型合成法の開発

実施期間:2012 - 2013
実施機関 (1件):
研究責任者: ( , 基礎工学研究科, 講師 )
研究概要:
近年の半導体微細加工を支える重要な技術開発として、ナノ加工を支えるレジスト剤の高機能化と安価な供給法の確立がある。超微細加工を達成する手法の一つとして、機能性レジスト材へと変換可能なケイ素含有モノマーの安価かつ、環境調和型合成は非常に重要である。本課題では、ケイ素含有スチレンモノマーの合成法として、安価かつ安定なベンジルアルコール誘導体を原料としてイリジウム錯体触媒による炭素-水素結合活性化を用いたケイ素官能基のスチレン前駆体への導入を達成した。単純なベンジルアルコールのみならず、様々な置換基を有するベンジルアルコール誘導体も利用可能であり、多彩なケイ素含有スチレンモノマー誘導体の有用な合成法を示すことに成功した。
研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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