研課題
J-GLOBAL ID：202104010739057990
研究課題コード：7700000935
自己集合膜を利用したストレスの制御とパターニング
体系的課題番号：JPMJPR02A6
実施期間：2002 - 2005
実施機関 (1件)：
研究代表者：
(
, 材料研究所, 主任研究員 )
DOI：
https://doi.org/10.52926/JPMJPR02A6
研究概要：
ストレスは物質の歪みや破壊に繋がるものとして悪印象がありますが、ストレスが存在する場所だけで反応性が上がったり、ポテンシャルが変化したりして、利用の可能性も秘めています。本研究は自己集合膜が作るストレスがイオン照射で大きく変わることを利用し、ストレス変調表面を作り、反応制御のパターニングを行うことを目的としています。この研究により、ナノ描画手法の一つとしてストレスを用いることが可能となります。
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上位研究課題：
情報、バイオ、環境とナノテクノロジーの融合による革新的技術の創製
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