フォトリソグラフィー技術を指向した高分子表面のフルオロアルキル化法の開発

実施期間：2009 - 2009
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 大学院人間文化創成科学研究科, 助教 )
研究概要：

デバイス製造におけるリソグラフィー技術の中で、インクジェット方式によるパターンの構築は簡便な方法として注目されている。そのパターン構築の微細化にはフッ素コートされた表面を削り取る方法が取られているが、望む表面への光処理による直接フッ素化が可能となれば、フッ素コート、型の作成、削取の工程が不要となり、極めて効率的である。そこで本課題では、高分子材料表面の光反応によるフルオロアルキル化の開発を行う。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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