二層高透磁率形状記憶複合材料の開発

実施期間：2011 - 2011
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 工学部, 教授 )
研究概要：

優れた磁性材料による軟磁性層と非磁性の形状記憶層からなる二層薄帯の開発を行った。軟磁性層に使用する合金としては、高透磁率や低鉄損など極めて優れた磁気特性を有し、磁気歪の小さい6.5%Si-Fe合金を選んだ。また、形状記憶層には軟磁性層と類似した組成を考慮して従来から開発してきたFe-Mn-Si合金を選んだ。二層薄帯の作製には、単ロール液体急冷法を用い、同時に二種類の溶融金属を噴射できるように、内部が2つの空間に分かれた石英ノズルを複数試作して最適な噴射口形状やノズル径を決定した。0.1wt%程度の僅かなBの添加により、二層薄帯の作製が容易となることを明らかにした。また同様にしてNi-Fe/Fe-Mn-Si二層薄帯の作製を試み、その特性を明らかにした。

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研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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