ロール・トゥ・ロールプロセスによるシリコンCMOS転写技術の開発

体系的課題番号：JPMJTM20G4
実施期間：2020 - 2021
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 先進理工系科学研究科(先), 教授 )
DOI： https://doi.org/10.52926/JPMJTM20G4
研究概要：

水のメニスカス力を利用してプラスチック基板上に単結晶シリコン薄膜を転写し,CMOS回路を形成する技術をシーズとし,これを量産可能とする製造技術の確立を目的とする.具体的にはプラスチック(PET)基板の所望の箇所に局所的に転写を実現する技術と,これをロール・トゥ・ロールプロセスで実現し99%以上の転写歩留まりを達成する技術の確立を目指す.安価なPET基板上にロール・トゥ・ロールプロセスで高機能回路を形成し動作実証することにより,フレキシブルエレクトロニクスにブレークスルーをもたらすものづくり技術を構築する.

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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