研課題
J-GLOBAL ID:202104011956304454  研究課題コード:7700116789

高効率で低コストな多結晶シリコンウェハプロセスの一貫した開発

実施期間:2012 - 2014
実施機関 (2件):
企業責任者:
研究責任者: ( , 大学院工学研究科, 教授 )
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した研究課題タイトルの用語をもとにしたキーワードです
研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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