研課題
J-GLOBAL ID:202104012491038554  研究課題コード:09157679

サファイア基板を要しない窒化ガリウム局所形成を行なう新プロセスの開発

実施期間:2009 - 2009
実施機関 (1件):
研究代表者: ( , 工学部, 教授 )
研究概要:
本研究では窒化シリコン(SiN)薄膜が形成された基板に低エネルギーGaイオンを注入して表面付近に窒化ガリウム(GaN)を形成し、これを結晶成長の種として用いて通常の有機金属化学気相成長を行うことで、GaN層をSiN薄膜上のGaイオン注入領域にのみ成長させるプロセスの開発を目指す。Gaイオン照射・未照射表面におけるGaN選択成長が完全に実現でき、GaNの結晶性を改善するための成長条件の最適化について検討を行う。
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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