研課題
J-GLOBAL ID:202104012550229709  研究課題コード:14530708

2層グラフェンのギャップ内準位解析と複層化界面制御による準位低減

体系的課題番号:JPMJPR1425
実施期間:2014 - 2017
実施機関 (1件):
研究代表者: ( , 大学院工学系研究科 )
研究概要:
既存のSiO2/Si系における界面準位との比較をもとに、層状物質系、特に2層グラフェンでのギャップ内準位の起源という本質的な問題に様々な解析手法を適応し取り組みます。様々なゲートスタック構造における系統的な比較をもとに界面準位の起源を明確にし、低減への指針を明確にします。最終的に、室温で高移動度と高Ion/Ioffを両立させることを研究目標とします。
研究制度:
上位研究課題: 素材・デバイス・システム融合による革新的ナノエレクトロニクスの創成
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構
報告書等:

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