シリコン結晶面上への単分散高分子表面構築による有機-無機複合体の創成

実施期間：2006 - 2006
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 工学部応用化学科, 助教授 )
研究概要：

金属表面への有機分子の固定法として、自己集積化単分子膜 (Self-Assembled Monolayer: SAM) が賞用されている。そこでシリコン (111) 基板表面へ単分散高分子表面を構築することを目的に可逆的連鎖付加-開裂移動 (以下RAFT) 剤であるジチオエステルを固定化した。得られた重合開始剤固定化表面を用いてスチレンの重合を行ったところ良好に反応は進行し、シリコン(111)表面に高分子が構築できることを確認した。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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