プラズマを用いた半導体ナノワイヤ大量合成技術

実施期間：2009 - 2009
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 工学研究科, 教授 )
研究概要：

数十nm以下の直径を有する半導体ナノワイヤは、次世代の電子・光デバイスや環境・エネルギー関連デバイスなど様々な分野への応用が期待される。半導体ナノワイヤのボトムアップ形成について、従来の熱プロセス "VLS (vapor-liquid-solid) 法" にかわり、プラズマプロセスを適用した大口径化可能 (メートルサイズの基板にまで適用可能) な新しい高精度ナノワイヤ大量合成技術 "PLS (plasma-liquid-solid) 法" を開発し、その有用性・実用性を実証する。

研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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