研課題
J-GLOBAL ID:202104013396794763  研究課題コード:7700007363

新規なMEMS作製プロセスによる携帯用低電圧駆動微小リレーの作製

実施期間:2006 - 2006
実施機関 (1件):
研究代表者: ( , 大学院工学研究科, 助教授 )
研究概要:
接着層の選択配置と光分解する離型フィルムを用いることで、非常にスムーズに金属微細パターンを移植する技術を開発した。さらに、凹凸パターンを持つモールドを用いて凸部についたレジストだけを基板に貼り付けるリバーサルインプリント技術によりリソグラフィなしで多層のレジストパターン構造を高収率で作製することができた。本研究では移植法とリバーサルインプリント技術の融合により、微小金属パターンをスムーズに基板に移植する技術を開発する。この新規プロセスを用いて犠牲層とリソグラフィを用いずに携帯用の微細リレーを作製する。これによりリソグラフィや犠牲層を要しないリレーが作れ、非常に簡単なプロセスで高歩留まり、低コストで低電圧駆動の携帯用微細リレーが実現できる。
研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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