パルス変調ガス導入方式によるナノ材料の精密成長制御プロセスの開発

実施期間：2007 - 2007
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 大学院工学研究科, 准教授 )
研究概要：

本研究では、化学気相成長(CVD)法によるナノ材料形成プロセスにおいて、リアクタ内へのガス導入を従来の連続導入ではなくパルス状に変調して導入することにより、カーボンナノチューブ(CNT)等のナノ材料を、従来方法より高精度で成長制御することが可能な、「パルス変調ガス導入方式によるCVDシステム」の開発を目的とする。本手法では、従来は混合ガスとして導入していた複数のプロセスガスを、ミリ秒オーダーで導入タイミングをずらしながらパルス状かつ周期的に導入する※(図参照)。これにより、時間平均でみると混合ガスとみなせるプロセスガスが、ミリ秒オーダーのスケールでは単一のガスを導入していると同様の状態になり、各ガスの特性を発現させ、従来よりも精密なナノ材料形成プロセスの構築が可能となる。 ※秘匿事項

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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