集束イオンビーム(FIB)照射誘起二次元強磁性体ナノドットメディアの実用化検討

実施期間：2011 - 2011
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 21世紀科学研究機構, 教授 )
研究概要：

FeRhにおける高エネルギーイオンビーム照射誘起強磁性現象に注目し、集束イオンビーム装置の描画機能を用いた、短時間、大面積のナノスケール磁気ドットパターンの作製方法に関する検討を行った。結果的には目標とした1Tbit/inch^2 程度の密度に相当する磁気ドットパターンの作製までには至らなかったものの、短時間、大面積に多様な磁気パターンを描画する技術の開発に成功した。更なるイオン照射条件の最適化、また熱処理を加えた複合プロセスの開発によって、パターンの微細化と磁気パターンの多様化など、新たな微細磁気イメージの描画技術へと発展させる技術シーズを展開することができた。

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研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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