研課題
J-GLOBAL ID:202104014390087115  研究課題コード:13417320

反応性分子の自己集合による精密グラフェン化学修飾技術の開発

体系的課題番号:JPMJPR13KB
実施期間:2013 - 2016
実施機関 (1件):
研究代表者: ( , 大学院基礎工学研究科, 助教 )
DOI: https://doi.org/10.52926/JPMJPR13KB
研究概要:
グラフェンは様々な用途が期待される新炭素素材です。本研究では、設計された反応性有機分子の固液界面における自己集合を用いる独創的なアプローチにもとづいて、周期的なグラフェンの化学修飾」を達成し、「分子によりグラフェンの性質を精密に制御する技術」を確立します。多様な用途に供する修飾グラフェンの作成を可能とする共通基盤性が高い化学修飾技術を確立します。
研究制度:
上位研究課題: 分子技術と新機能創出
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構
報告書等:

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