最密充填構造を模倣した廃Siからの3次元マクロ多孔質-Si構造体の創製

実施期間：2013 - 2013
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 物質工学科, 助教 )
研究概要：

Siインゴットの切断加工時に大量の廃棄物シリコンが排出される。本研究では,廃シリコンから合成できるブロモシランを用いて,電気化学的手法により3次元マクロ多孔質Si構造体を作製することを目標とした。細孔サイズが異なる数種類の3次元マクロ多孔質Si構造体の作製条件を明らかにした。結果,廃シリコンから抽出したブロモシランを電気化学的手法により,ナノ構造(や光学材料としての応用)を付与する自由度が高いことが分かった。今後,光学分析と細孔サイズの相関性を明らかにし,マクロ多孔質構造の最適化を進める。

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研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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