高機能センサのための高性能超磁歪薄膜の開発と応用

実施期間：2005 - 2005
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 工学部 )
研究概要：

(1)応募課題の概要目的:高性能な超磁歪薄膜を作成し,マイクロ化が可能な高感度かつ高機能な新技術によるカセンサの研究を推進し、力分布を非接触で検知できるセンサを開発する。内容:?高性能な超磁歪薄膜は,高感度なカセンサの基本構成要素となるが,歪ゲージや圧電タイプのセンサと異なり,力変化による透磁率変化を非接触で取り出すことが可能になる。?超磁歪薄膜をマイクロ化し多数配置することによって力分布を非接触で検知できるセンサを構成することができる。?このセンサを使用することによって微細な接触感覚も測定できる触覚センサを構成することが可能になる。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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