30 GHzをカバーする超高周波磁性薄膜透磁率評価装置の開発

実施期間：2013 - 2013
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 工学部, 教授(移行) )
研究概要：

光学的手法および高周波電磁波を磁性薄膜へ印加することにより磁性薄膜の透磁率を評価し、30 GHz までの広帯域測定に成功した。また磁性薄膜への直接通電により膜厚が数nmの極薄膜の評価も可能となった。本研究で開発した手法はサンプルサイズに依存せずに広帯域かつ極薄膜の評価が可能にあることから従来の透磁率測定法にはない特長を有すると考えられる。

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研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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