次世代超薄層積層型セラミック電子部品製造プロセスの開発

実施期間：2006 - 2006
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , エコトピア科学研究所, 助教授 )
研究概要：

本試験研究では、化学的に制御された溶液を用いる簡便かつ環境に優しい低コストプロセスにより、近年、小型化・薄層化・多積層化の限界まで開発が進行している積層型セラミック電子部品の次世代製造プロセスを提案するためのブレークスルーとなるミクロン以下の厚みスケールの超薄層積層型素子構造形成プロセスを開発する。例えば、超薄層積層型セラミックキャパシタを従来の方法(スラリーあるいはペースト状の材料からの成形、積層・同時焼結過程を経るプロセス)とは全く異なる新規なプロセスにより集積回路用基板上への直接作製を実現するようなシーズ発掘試験研究を目指す。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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