新規ウェットプロセスによる高密度垂直磁気記録媒体の製造

実施期間：2007 - 2007
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 大学院工学研究科, 准教授 )
研究概要：

無電解析出させた金属ナノ粒子を用いる新規ウェットプロセスにより高密度ナノホールアレイを形成し、これにコバルト系硬質磁性合金を無電解自己触媒析出法を用いて充填することで、高密度な垂直磁化ナノロッドアレイを作製する。これにより、溶液に浸すだけの簡便で低コストな方法で、テラビット高密度垂直磁気記録媒体を製造することを最終目標とする。

研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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