高耐熱性・高機能ダイヤモンドライクカーボンの薄膜作製技術

実施期間：2013 - 2013
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 理工学研究科, 准教授 )
研究概要：

本研究では、プラズマ化学気相成長(CVD)法によりSiおよびN共添加DLC(Si-N-DLC)膜を作製し、機械的・摩擦摩耗特性を評価した。同法を用いてSi-N-DLC膜を作製し、作製条件と機械的・摩擦摩耗特性との関連性を明らかにし、Si-N-DLC膜の耐熱性を向上させるための指針を得た。今後、化学結合状態を変化させるために、作製条件や原料ガスの検討を行い、Si-N-DLCの耐熱性を評価する。種々の原料を組み合わせて各供給量を制御することで、Si-N-DLCの組成領域内で網羅的に組成を変化させ、摩擦摩耗特性および耐熱性を更に向上させるための作製条件を探索する。

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研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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