研課題
J-GLOBAL ID:202104015618451684  研究課題コード:08001049

PBII法を用いたNIL用高硬度・高剥離性を有するF-DLCモールドの開発

実施期間:2007 - 2007
実施機関 (1件):
研究代表者: ( , 高度産業科学技術研究所, 助教授 )
研究概要:
ナノインプリントリソグラフィー(NIL)は、数十nmスケールのパターンを容易・低コストで形成できるために、LCD部材・燃料電池などの様々な先端産業分野で注目を集めている。本課題はこれまでNILの量産化にネックとなっていた耐摩耗性と高剥離性を満足するモールド離型材の決定版として、Plasma-Based Ion Implantation(PBII)法により、フッ素を含有したダイヤモンドライクカーボン(F-DLC)を用いるモールドの開発を行う。
タイトルに関連する用語 (6件):
タイトルに関連する用語
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研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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