高密度プラズマによる酸素ラディカル制御

実施期間：2010 - 2010
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , デザイン工学部, 教授 )
研究概要：

本研究では、DLCコーテッド工具・金型の高速脱膜・高品位脱膜を目指し、高密度プラズマアッシング技術を、酸素ラディカル制御という側面から高度化をはかることを目的した。高速脱膜に関しては、1時間で通常のDLCコーテッド工具を脱膜できること、表面性状保持が必須なDLCコーテッド超精密金型も1時間以内で、基材表面品質を保持しつつ、完全脱膜できることがわかった。さらに分光装置を用いたプラズマ診断を併用することで、実時間で酸素プラズマ状態を測定し、原子状酸素・活性化酸素および酸素分子イオンからなる制御酸素雰囲気が、高速プラズマ脱膜・高品位プラズマ脱膜に有効であることを示した。

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研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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