メタノールガス照射によるシリコン酸化膜の高品質化に関する研究開発

実施期間：2011 - 2011
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 工学部, 准教授 )
研究概要：

本研究では、シリコーンオイルとオゾンの反応により簡便に製膜されたシリコン酸化膜を、有機溶媒中にて低温で処理することにより改質および高品質化することを目的とする。シリコン酸化膜をエタノールやメタノール雰囲気中にて最高温度250度で処理することにより、膜中に含まれるOH基を大幅に減少させることに成功した。OH基除去のメカニズムを詳細に調査した結果、シリコン酸化膜中の炭素濃度が上昇していることがわかり、これは、OH基がSiOCH3に置換されたことに起因することがわかった。電気的特性を調べた結果、目標としていた5MV/cmにおいて10-7A/cm^2のリーク電流を達成した。

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研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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